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　　　　　　工業用セラミックス製造メーカー 西村陶業株式会社

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　今月の担当は開発技術課の西村佳です。



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◆◇ 事例：Si3N4セラミック（窒化ケイ素）ダミーウエハー 耐衝撃・耐熱性
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高強度・耐衝撃性に優れたSi3N4セラミック（窒化ケイ素）ダミーウエハーです。

機械的強度と耐熱衝撃性が求められる半導体製造工程に最適で、
長寿命と高信頼性を提供します。


◆特長
・高強度・耐衝撃性
・優れた耐熱衝撃性
・化学的安定性
・精密加工対応


●Si3N4セラミック（窒化ケイ素）ダミーウエハー 耐衝撃・耐熱性（画像あり）
https://nishimuratougyou.co.jp/8939




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◆◇ 事例：ALNセラミック（窒化アルミニウム）ダミーウエハー 半導体製造用
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高熱伝導率と優れた電気絶縁性を兼ね備えた
ALNセラミック（窒化アルミニウム）ダミーウエハーです。

半導体製造工程や熱処理工程での評価・搬送用に最適。
安定した寸法精度と高耐熱性で、装置の信頼性向上に貢献します。


◆特長
・高熱伝導率：約170 W/m・K 
・優れた電気絶縁性 
・高耐熱性・低熱膨張 
・精密加工対応


●ALNセラミック（窒化アルミニウム）ダミーウエハー 半導体製造用（画像あり）
https://nishimuratougyou.co.jp/8947


●ANYCHUCK 真空チャック 部分吸着
https://nishimuratougyou.co.jp/anychuck/



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◆◇ 事例：500x300x30t ANYCHUCK 平面度2μm 部分吸着真空チャック
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500x300x30tの部分吸着ポーラスチャック「ANYCHUCK」を、
平面度2μmまで高精度加工した真空チャックをご紹介します。

高精度吸着ステージとしてご使用いただけます。


本製品は、チャック上面の平面度を2μm以内に仕上げています。

このレベルの平面度を確保することで、

・精密測定用ステージ
・半導体・ガラス基板の検査ステージ
・レーザー加工・微細加工用の位置決めステージ
など、高い平坦性が求められる用途で安定したワーク固定が可能になります。


●500x300x30t ANYCHUCK 平面度2μm 部分吸着真空チャック（画像あり）
https://nishimuratougyou.co.jp/8952




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◆　編集後記
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　改めましてこんにちは！
　開発技術課の西村　佳です。

　年末から年始にかけて、SEMICONが盛況であったり、
　日刊工業新聞に取り上げていただけたり、
　弊社としては嬉しいことが多い今日この頃です。


　開発技術課としてはもう一つ嬉しいことがあり、
　年末に念願の開発室の移転がありました。

　開発室は50年くらい？同じ部屋で、色々混沌としていたのですが、
　新しい建屋に引っ越すことができました。

　開発は保管する物量が多いため、引越しはかなり大変でしたが、
　動かないと思っていた机が動くことが分かったり、
　探していた物が見つかったり、色々発見もありました。

　狭かった今までの倍くらいのスペースの部屋に移ることができて大喜びです。

　綺麗な場所に移動すると意識も変わるもので、
　整理整頓を大の苦手としている我々開発メンバーが
　きちんと掃除をするようになりました。

　不思議と整理をすると頭の中も整理される感があり、
　ストレスも軽減されたような、、
　約30歳にしてやっと整理整頓の大事さに気づき始めています。遅い、、


　環境が変わり、仕事の質も上がっていく予定ですので、
　皆様試作やお悩み事はぜひ我々開発チームにご相談くださいませ！


　最後までお付き合いいただきありがとうございます。



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